電子冷熱恒温槽
半導体製造に行われる蒸着工程では、ミクロン単位での成膜が要求されます。蒸着される拡散ガスの蒸気圧制御では、温度管理も重要な項目となります。
弊社の電子冷熱恒温槽は百分台での温度制御を実現しており、蒸着プロセスで多くの実績がございます。その他、理化学分野、製薬分野など繊細な温度制御が必要となる用途に効果を発揮します。
ペルチェ方式による高精度の温度コントロールを実現
主な特徴
- 電子冷熱方式で槽内の液を -10.00〜70.00℃ の範囲で温度制御します。
- 高分解能温度指示 0.01℃(1/100℃)
- 独自液循環方式により、高い温度安定性(±0.02℃)を実現しました。
- 自社開発の高精度温度制御器。
- 水槽部と制御部がセパレート。
各種装置への組込みに適しています。 - 通信機能 RS-232C/RS-485 (オプション)
温度設定、運転状態のモニターの他、運転/停止もリモート操作可能です。
本機を複数台組み込んだCVD装置などで集中操作ができ便利です。
主な用途
- 半導体製造で行われる蒸着プロセスの拡散ガス蒸気圧コントロール。
- 理化学分野での各種実験。
- 製薬分野での試験研究。
- 不活性液媒体(GALDEN®等)を使用した、部品の浸漬温度試験。
主な仕様
制御方式 | 水冷式電子冷熱方式(ペルチェ方式) |
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モデル | RT-250Z430-GE |
設定温度範囲 | -10.00〜70.00℃ |
温度指示/設定分解能 | 0.01℃ |
温度安定性※1 | ±0.02℃ |
上記条件 | 周囲温度 23℃ 周囲湿度 55%RH 冷却水温 25℃ 液媒体 GALDEN HT200 ※2 槽内熱負荷無し。 |
通信機能(オプション) | RS-232C/RS-485 運転モニター、温度設定の他 運転/停止もリモート操作可能です。 |
使用周囲温度 | 5〜35℃ |
冷却水温度 | 18〜30℃(標準:25℃) |
冷却水流量 | 2.5~5.0L/min(設定温度により調整可能) |
電源 | 単相 AC200V 4A 50/60Hz |
使用可能液媒体 | フッ素系媒体 不凍液等 蒸留水 |
各種保護機能 | 自己診断機能 異常・警報出力(リレー出力) |
水槽内寸法(mm) | Ø250×430H(液面 400H) 有効容積:20.0L |
水槽部外形寸法(mm) | 321W×321D×580H(突起部含まず) |
制御部外形寸法(mm) | 260W×362D×147H(突起部含まず) |
※1 温度分布を含む(実測値であり、保証値ではありません)。周囲温度、冷却水温度により変動することがあります。
※2 GALDENR®はソルベイソレクシス社の登録商標です。
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